Vacuum


Wydawca Elsevier
ISSN 0042-207X
e-ISSN 1879-2715
Impact Factor dla czasopisma 1.53 (od 2012)
1.426 (od 2013)
1.858 (od 2014)
1.558 (od 2015)
1.53 (od 2016)
2.067 (od 2017)
2.515 (od 2018)
Lista MNiSW A (od 2012)
A (od 2017)
tak (od 2019)
Punktacja MNiSW dla czasopisma 20 (od 2012)
25 (od 2013)
25 (od 2017)
70 (od 2019)
Ujednolicona Lista MNiSW A
Ujednolicona punktacja MNiSW 25
SNIP 1.161 (od 2017)
Klasyfikacja ASJC 2508 Materials Science: Surfaces, Coatings and Films
3104 Physics and Astronomy: Condensed Matter Physics
3105 Physics and Astronomy: Instrumentation
Polecane strony internetowe strona wydawcy  


Publikacje w tym tytule: 4

Tkacz-Śmiech, Katarzyna; Dyndał, Katarzyna; Sanetra, Jerzy; Jaglarz, Janusz
Comparison of a-C:N:H layers grown at the anode and cathode in RF-PACVD processing
Typ: artykuł w czasopiśmie
Data wydania: 2017
Ujednolicona lista MNiSW 2013-2016: A
Ujednolicona punktacja MNiSW 2013-2016: 25
Impact Factor: 2.067
Publikacja indeksowana w Web of Science: tak
Publikacja indeksowana w bazie Scopus: tak
Reszka, Kazimierz; Murzyński, Dawid; Rakoczy, Jan
Application of Al and Pt nanofilm system produced by magnetron sputtering for modification of catalytic properties of alumina obtained on ferritic foil
Typ: artykuł w czasopiśmie
Data wydania: 2009
Reszka, K.; Rakoczy, J.; Żurek, Z.; Czyżniewski, A.; Gilewicz, A.; Homa, M.
Catalytic properties of Al2O3 deposited by ion sputtering using DC and RF sources
Typ: artykuł w czasopiśmie
Data wydania: 2005
Tuleta, Marek
The influence of primary oxygen ions on SIMS depth profiling in materials implanted with cesium
Typ: artykuł w czasopiśmie
Data wydania: 2004




© 2009 - 2019 Biblioteka Politechniki Krakowskiej http://www.biblos.pk.edu.pl/